納米位移臺(tái)在運(yùn)動(dòng)過程中，回差會(huì)對(duì)定位精度和重復(fù)性產(chǎn)生明顯影響，其主要影響如下：
定位誤差增加
回差導(dǎo)致位移臺(tái)在前進(jìn)和后退時(shí)同一目標(biāo)位置出現(xiàn)偏差，即實(shí)際位置與期望位置不完全重合，降低定位精度。
重復(fù)性差
在需要多次移動(dòng)到同一位置的實(shí)驗(yàn)或測(cè)量中，回差會(huì)使每次到達(dá)的實(shí)際位置不同，影響實(shí)驗(yàn)的可重復(fù)性和數(shù)據(jù)可靠性。
測(cè)量或加工誤差累積
對(duì)于長行程或連續(xù)運(yùn)動(dòng)，回差會(huì)逐步累積，尤其在掃描或步進(jìn)控制中，會(huì)造成累積誤差，使最終定位偏離目標(biāo)。
控制系統(tǒng)補(bǔ)償困難
即使使用閉環(huán)控制，回差也會(huì)增加控制系統(tǒng)的負(fù)擔(dān)，需要通過算法或前饋補(bǔ)償來減小誤差，否則高精度任務(wù)可能無法實(shí)現(xiàn)。
影響實(shí)驗(yàn)結(jié)果或加工質(zhì)量
在納米操作、精密定位、光學(xué)掃描或材料加工中，回差會(huì)導(dǎo)致實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)偏差或加工圖案畸變，直接影響結(jié)果可靠性。