納米位移臺為了實現高精度控制，通常都會配備反饋系統來實時檢測位移并修正誤差。常見的反饋方式主要有以下幾類：
1. 電容式位移傳感器
原理：通過測量電容隨位移變化來獲取位移量。
優點：分辨率高（可到亞納米級）、穩定性好、響應速度快。
缺點：對環境潔凈度要求高，容易受灰塵、濕度影響。
應用：高精度掃描顯微鏡、精密對準系統。
2. 光學干涉儀
原理：利用激光干涉原理，將位移轉化為干涉條紋的變化來測量。
優點：精度高，可達皮米級；適合大行程位移測量。
缺點：系統復雜，對環境振動和空氣擾動敏感。
應用：半導體設備、計量標準、超精密加工。
3. 應變片/壓電傳感器
原理：通過應變片或壓電元件檢測驅動器變形量，間接反映位移。
優點：結構簡單、成本低、響應快。
缺點：長期穩定性較差，容易有漂移和非線性誤差。
應用：成本敏感或中等精度要求的納米位移臺。
4. 電感式傳感器
原理：利用電感耦合隨位移變化的原理來檢測位移。
優點：非接觸測量，適合中大行程，抗干擾能力強。
缺點：精度和分辨率比電容式和干涉儀低。
應用：工業環境下的精密位移控制。
5. 光學編碼器
原理：通過光柵或編碼盤的位移變化，讀取光學信號轉換成位移信息。
優點：行程大，分辨率高（納米級），抗干擾性較好。
缺點：分辨率比電容式略低，對安裝和校準要求高。
應用：長行程納米位移臺、多軸聯動系統。