納米位移臺的 線性誤差（即實際位移與理論位移不完全一致）是影響定位精度的重要因素，其來源可以從機械、電氣和控制三個方面分析：
1. 機械結構因素
導軌或滑塊幾何誤差
導軌直線度、平行度、傾斜度等不理想會導致位移偏差。
絲杠或螺桿傳動誤差
螺距誤差、螺桿旋轉軸與導向軸不完全同軸，會引起累積位移誤差。
柔性驅動元件的彈性變形
包括柔性桿、彈簧、薄膜電驅動器等，受力時會產生非線性變形，導致位移非線性。
摩擦與間隙
摩擦力不均或間隙存在時，啟動力或反向運動的響應不同，產生滯后或非線性偏差。
2. 電氣與驅動因素
驅動器非線性
壓電陶瓷驅動器或電機驅動的響應非線性（例如壓電臺電壓與位移關系非線性）。
傳感器非線性
位移反饋傳感器（如電容、光柵尺、LVDT）測量非線性或靈敏度漂移會導致讀值偏差。
電氣噪聲和漂移
信號噪聲、溫度漂移或供電不穩也會造成位移誤差波動。
3. 控制與環境因素
閉環控制誤差
PID 或其它控制器參數不優化，會出現跟隨誤差或滯后，表現為非線性。
溫度變化
材料熱膨脹或驅動器熱效應會改變位移特性，導致線性誤差隨溫度變化。
負載變化
臺面載荷變化會影響柔性驅動或摩擦特性，從而引起非線性響應。
振動與外界干擾
環境振動或沖擊也可能引起瞬態位移偏差。
4. 誤差表現形式
全程非線性：實際位移與理論位移曲線不成直線。
局部跳躍：摩擦/間隙導致短距離移動不連續。
滯后與滯環：正向和反向運動曲線不重合。