納米位移臺在運動過程中，回差會對定位精度和重復性產生明顯影響，其主要影響如下：
定位誤差增加
回差導致位移臺在前進和后退時同一目標位置出現偏差，即實際位置與期望位置不完全重合，降低定位精度。
重復性差
在需要多次移動到同一位置的實驗或測量中，回差會使每次到達的實際位置不同，影響實驗的可重復性和數據可靠性。
測量或加工誤差累積
對于長行程或連續運動，回差會逐步累積，尤其在掃描或步進控制中，會造成累積誤差，使最終定位偏離目標。
控制系統補償困難
即使使用閉環控制，回差也會增加控制系統的負擔，需要通過算法或前饋補償來減小誤差，否則高精度任務可能無法實現。
影響實驗結果或加工質量
在納米操作、精密定位、光學掃描或材料加工中，回差會導致實驗數據偏差或加工圖案畸變，直接影響結果可靠性。